pulsed laser deposition PLD

the most flexible PVD.

Bei der gepulsten Laserablation (pulsed laser deposition, PLD) wird hochenergetisches und kurzwelliges (UV) Licht eingesetzt, um das Ausgangsmaterial (Feststofftarget) in die Gasphase und darüber in Form einer Schicht auf das zu beschichtende Werkstück (Substrat) zu bringen. Damit zählt die Laserablation auch zur Klasse der physikalischen Gasphasen-Beschichtungsverfahren (PVD-Verfahren). Der Einsatz von Lasern in der Beschichtungstechnik bietet dabei eine Vielzahl von Vorteilen gegenüber den klassischen PVD-Verfahren (Verdampfen, Sputtern) und profitiert auch von der Weiterentwicklung der UV-Lasertechnologie in den vergangenen 10 Jahren. Dadurch stehen mittlerweile hohe Laserenergien (bis 1 J/Puls) und Repetitionsraten (bis 300 Hz) für eine Schichtabscheidung in Entwicklung und Produktion zur Verfügung.

Eigenschaften PLD

höchste Flexibilität bei Beschichtungsmaterialien

Deposition komplexer Materialien möglich

geringe Temperaturen – ab Raumtemperatur

Multischichtsysteme möglich

hohe Targetausbeute

kostengünstige Targets

Materialabtrag abseits thermodynamischen Gleichgewichts

hohe Prozessreinheit

umweltfreundliches Verfahren

Reaktivgas und Inertgas Prozesse

PLD Beschichtungsmaterialien

HTSL
Ferro-/Piezo-/Dielektrika
CMR-Materialien
Optische/ Elektrooptische Materialien
Biokompatible Materialien

Kohlenstoffschichten Hartstoffschichten
tribologische Schichten Nanokomposite

Fluor-Polymere
hochdichte Polymere

Granate
Spinell

III-V Halbleiter
II-VI Halbleiter

Edelmetalle
Metalle / Legierungen